總部位於以色列的精密添加劑製造技術開發商Nanofabrica宣布推出其微級分辨率AM技術。
“到目前為止，關鍵的AM平台開發商一直在努力實現50微米以下的分辨率，並且存在的少數微製造AM技術要么在機器和單件成本方面非常昂貴，要么非常慢，要么具有嚴格的尺寸限制 ，“Nanofabrica首席執行官Jon Donner說。
Nanofabrica的專利工藝基於數字光處理（DLP），與自適應光學相結合，可實現可重複的微米級分辨率。 該工具與一系列傳感器相結合，可實現閉合反饋迴路。 Nanofabrica表示，這是自適應光學系統首次應用於AM技術。
Nanofabrica的AM平台據說能夠在厘米尺寸的零件上實現1微米的分辨率。憑藉其50 x 50 x 100 mm的構建體積，它可以在單個構建中輸出數千個零件。為了實現這些目標，已經結合了許多技術。
具體而言，Nanofabrica的AM平台將自適應光學與半導體行業的技術相結合。通過在半導體和AM的交叉點工作，Nanofabrica能夠構建具有復雜微細節的大“宏觀”部件。通過引入多分辨率策略，它也可以比其他微型AM平台快100倍。需要精細細節的部件打印速度相對較慢，但在對細節的注意力過剩的部分區域，部件的打印速度要快10到100倍。
Nanofabrica成立於2016年，已確定其在光學，半導體，微電子，MEMS，微流體和生命科學領域的AM技術應用。據該公司稱，可能受益的產品包括微電子，微彈簧，微致動器和微傳感器的外殼，以及許多醫療應用，如微型閥門，微型注射器和微型植入或手術設備。
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